Китайская индустрия полупроводников достигла значимого этапа, разработав прототип установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология, ранее находившаяся под контролем голландской компании ASML, играет ключевую роль в производстве современных процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу этой технологии Китаю, новые данные свидетельствуют о заметном прогрессе китайских специалистов. В последние годы компании, такие как SMIC, активно пытались воспроизвести разработки ASML, используя старые детали их оборудования. ASML уже проводила судебные разбирательства против бывших сотрудников, заподозренных в краже технологий. Прогресс в Китае оказался быстрее ожидаемого, хотя серийное производство чипов с использованием EUV еще не начато. Однако к 2030 году страна намерена наладить массовое производство. Этот успех происходит на фоне растущего технологического соперничества с США, особенно в свете развития искусственного интеллекта. Тем временем Huawei и SMIC работают над созданием производственных мощностей в Китае. Литографические машины EUV — результат многолетних исследований, использующие мощные лазеры для создания ультрафиолетового излучения, необходимого для производства чипов с элементами, сопоставимыми по размеру с ДНК. Также в Санкт-Петербургском политехе был разработан первый отечественный литограф.