Производственные компании в Китае активно модернизируют свои системы глубокого ультрафиолетового литографирования (DUV) от нидерландского производителя ASML в попытке преодолеть международные экспортные ограничения. Как сообщает Financial Times, китайские фабрики, занимающиеся выпуском продвинутых чипов, увеличивают производительность более старых машин, таких как Twinscan NXT:1980i, чтобы создавать 7-нм чипы, необходимые для технологий искусственного интеллекта. Из-за ограничений на экспорт современные DUV-системы недоступны для Китая, что вынуждает компании искать альтернативные компоненты на вторичном рынке. В частности, они приобретают обновленные механические платформы и оптику для улучшения точности производства. Производители, такие как Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) и Huawei, используют эти старые технологии для своих нужд. ASML, в свою очередь, подтверждает соблюдение всех правовых норм и не поддерживает улучшения, превышающие допустимые уровни производительности.