Китайские исследователи представили новый настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения, что является важным шагом к независимости страны в производстве микрочипов. Эта инновация позволяет создавать микросхемы с топологическим узлом в 14 нанометров. Хотя новая система не представляет собой полную замену машинам голландской компании ASML, она может служить неплохой альтернативой для мелкосерийного производства чипов и выполнения других задач, таких как инспекция и создание прототипов квантовых процессоров. В отличие от ASML, который требует больших коллекторных зеркал, новый источник использует фемтосекундный лазер и газ аргон для генерации ультрафиолета с меньшими затратами энергии. Несмотря на то, что новая установка не предназначена для массового производства, её компактные размеры и низкие эксплуатационные расходы делают её крайне востребованной для исследований, что соответствует целям Китая по укреплению собственной научной базы.