Samsung начинает тестирование оборудования для 2-нм чипов в Техасе

На заводе Samsung в Тейлоре началось тестирование оборудования для EUV-литографии, поддерживаемое голландским производителем ASML. В условиях ограничения TSMC на производство 2-нм чипов в США, Samsung имеет шанс занять эту нишу, привлекая таких клиентов, как Tesla и другие крупные технологические компании.

Сейчас открыты 183 вакансии для инженеров и техников, что свидетельствует о активной установке оборудования и подготовке к запуску. Компания планирует нанять 1500 сотрудников, а поставщики, такие как ASML, Lam Research и KLA, добавят еще 1500 инженеров, что увеличит общее число работников до 3000.

Производительность на начальном этапе составит 50 тыс. пластин в месяц с использованием технологии GAA. Полномасштабное производство планируется начать в 2027 году, хотя установка и проверка оборудования могут занять до трех лет. Проект частично финансируется через «Закон о чипах», с предварительным грантом в размере $6,4 млрд.