В Зеленограде было представлено новое оборудование, предназначенное для процессов плазмохимического осаждения и травления, ключевых этапов в производстве микросхем. Это событие произошло 10 декабря, когда представители НИИМЭ и НИИТМ подписали документы о госприемке. НИИ молекулярной электроники выступил ведущим исполнителем, обеспечив строительство чистых помещений и испытания оборудования, разработанного специалистами НИИТМ. Инвестиции в проект составили 2,5 млрд рублей. Новое оборудование позволит производить интегральные микросхемы на пластинах 200 мм и 300 мм, что отвечает мировым стандартам. Важно отметить, что НИИМЭ и НИИТМ вошли в пятерку компаний, обладающих подобными технологиями. Генеральный директор НИИМЭ подчеркнул, что это достижение станет основой для технологической независимости российской микроэлектроники. Ожидается, что производители начнут искать клиентов как на внутреннем, так и на внешнем рынках, включая предстоящую презентацию в Китае.