Японская фирма Dai Nippon Printing представила усовершенствованную технологию нанолитографии, которая может значительно снизить затраты по сравнению с традиционной фотолитографией, доминирующей на рынке. Согласно информации от Nikkei Asia, в настоящее время нидерландская компания ASML контролирует почти 90% рынка оборудования для производства чипов, основываясь на фотолитографии, где кремниевые микросхемы создаются с помощью мощных ультрафиолетовых лазеров. Этот процесс требует значительных энергетических затрат, а стоимость необходимого оборудования может достигать сотен миллионов долларов. Новая разработка Dai Nippon Printing ставит под сомнение существующий порядок, используя метод, при котором схема не рисуется, а отпечатывается на кремниевой основе. Инженеры компании преодолели ограничения, связанные с созданием чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров, разработав специальный материал, который обеспечивает высокую точность. В комбинации с оборудованием Canon, способным формировать структуры размером до 1,4 нм, новая технология оказывается на 90% дешевле традиционной. Ведущие производители, такие как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia, уже проявили интерес к этой разработке. Kioxia начала тестовое производство, и, если испытания будут успешными, массовое внедрение ожидается в 2027–2028 годах.