С 2026 года в России начинается работа над первым отечественным литографом, использующим технологию 90 нанометров. Заместитель министра промышленности России сообщил об этом в конце марта. В настоящее время в стране уже существует 350-нм литограф, а работы над 130-нм машиной близятся к завершению. Россия продолжает процесс импортозамещения в области литографического оборудования, который был начат в 2022 году.
По словам специалистов, в течение 2-3 лет появятся свои 90-нм технологии, которые обеспечат производство различных микросхем для интернета вещей, автоэлектроники и других областей. Основной разработчик литографов, Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), уже подписал контракты на поставку новых машин и активно работает над снижением себестоимости и созданием новых платформ.
Ожидается, что к 2030 году в России смогут разрабатывать установки на 65 нм и 28 нм, продолжается работа по созданию отечественного оборудования для микроэлектроники.