В марте 2026 года Россия стартует работу над литографом для производства полупроводников по новой топологии 90 нм. Это заявление сделал заместитель министра промышленности Василий Шпак на научно-технической конференции, состоявшейся 20 марта. Исполнительные компании для выполнения работ будут выбраны по итогам конкурса. В проекте участвует Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) в сотрудничестве с белорусской компанией «Планар», которая ранее занималась разработкой литографов на 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв пока не дал ответ, планирует ли центр участвовать в конкурсе. В ноябре 2026 года ожидается завершение работы над степпером с разрешением 130 нм. Эксперт Дмитрий Пшиченко отметил, что создание литографа с нуля может занять до десяти лет и потребует значительных финансовых вложений. Основным вопросом остаётся наличие всей экосистемы для производства, включая фотошаблоны и квалифицированный персонал. В России уже имеется литограф на 350 нм, а работа над 130 нм ведётся. Стоимость последнего составляет 6 миллионов долларов, с возможностью обработки 100-140 пластин в час.